Deposition——沉积刻蚀行为预测工具  

Atomistic-Scale Simulations of Deposition, Growth, Oxidation, and Etching at your Fingertips

颗粒和表面之间的相互作用控制着许多重要的过程，包括沉积、氧化、生长、表面改性、轰击、溅射和蚀刻。 MedeA Deposition模块有助于模拟预定义粒子对表面的自动连续的影响，并使您能够检查和控制粒子表面反应和相互作用的动力学过程和机制。

O2 Deposition on Si Surface with ReaxFF

功能特点：

• 沉积任意数量的各种粒子类型，例如原子、簇和分子

• 以用户定义的粒子速度或能量、角度和频率冲击表面

• 自动分析结果，例如粒子分布图

• 用户定义冲击区域、冲击速度/能量、冲击角度、冲击频率和每种沉积颗粒类型的沉积总数

• MedeA Deposition使用LAMMPS经典分子动力学引擎，无论在小规模工作站还是大规模并行超级计算机上都能实现高性能运算

• 使用Langevin热浴对基质进行控温

• 根据沉积颗粒类型自动创建分布图，用于分析穿透深度、反应范围、生长厚度等

• 适用于ReaxFF、COMB3、Tersoff和EAM等反应力场，以及PCFF+等非反应力场

所需模块：

• MedeA Environment

• MedeA Forcefields

• MedeA LAMMPS