沉积薄膜生长过程复杂，主要涉及微观尺度下原子/分子在衬底表面的吸附、反应与薄膜生长动力，另外还包含宏观的气体流动、传质与传热过程。那么，如何从微观的原子尺度、宏观的有限元尺度以及两者耦合对沉积工艺进行仿真，优化工艺参数与设备？
6月18日下午，线上报告“多尺度仿真优化半导体沉积工艺”已通过源资课堂顺利举办。从半导体沉积工艺出发，介绍了PVD、CVD以及ALD工艺在第一性原理与分子动力学尺度的仿真模拟案例与研究方法，拓展了基于有限元的反应腔室设计、材料筛选。
最后演示了在MedeA中如何快速地实现：
沉积过程中的反应路径、反应能垒预测
沉积仿真建模，与实验相关参数的设置
精彩内容分享
QA答疑
1、沉积只能依赖力场吗，可以使用基于DFT理论结合VASP来运行沉积的分子动吗
沉积过程属于超过1000个原子以上的大尺度工艺过程，VASP基本处理不了，只能采用分子动力学，所以需要依赖力场。如果没有合适的力场，可以采用机器学习力场训练一个自己体系的力场。
2、有研究过沉积室的热场模拟吗，热场模拟用什么软件？
沉积室的热场，也就是温度场，包括速度场，是可以采用流体力学方面的工具模拟，比Altair的流体力学软件。
3、辐射率需要实验测试得到吗?
是的。
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